光刻膠行業(yè)關(guān)注度持續(xù)上升 多家上市公司回復(fù)投資者相關(guān)問題

    本報(bào)記者 許潔 見習(xí)記者 寇佳麗

    光刻膠再次成為資本市場(chǎng)的焦點(diǎn)之一，行業(yè)熱度持續(xù)上升。同花順數(shù)據(jù)顯示，8月28日-9月15日，光刻膠概念指數(shù)（885864.TI）由2115.07點(diǎn)升至2540.38點(diǎn)，18日內(nèi)漲幅超20.1%。

    據(jù)《證券日?qǐng)?bào)》記者不完全統(tǒng)計(jì)，9月15日當(dāng)天，A股市場(chǎng)有7家上市公司發(fā)布的公告涉及光刻膠相關(guān)內(nèi)容，11家公司回應(yīng)了光刻膠相關(guān)話題。

    例如，南大光電在回復(fù)投資者提問時(shí)表示，公司研發(fā)的ArF光刻膠目前已在下游客戶的產(chǎn)品上通過驗(yàn)證；容大感光回復(fù)投資者稱，公司半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品的主要客戶有揚(yáng)杰科技、華微電子等。

    “資本市場(chǎng)對(duì)光刻膠行業(yè)的關(guān)注說明業(yè)內(nèi)各方看好中國(guó)光刻膠的投資前景和產(chǎn)業(yè)發(fā)展。作為芯片生產(chǎn)過程中不可或缺的關(guān)鍵材料，半導(dǎo)體光刻膠也是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的短板之一。”環(huán)業(yè)投資集團(tuán)（IPG）中國(guó)區(qū)首席經(jīng)濟(jì)學(xué)家柏文喜對(duì)《證券日?qǐng)?bào)》記者表示，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近來取得的顯著進(jìn)展，令外界對(duì)這一產(chǎn)業(yè)鏈各個(gè)細(xì)分支、多環(huán)節(jié)給予了更高關(guān)注與期待。

    “國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)正從低端市場(chǎng)向高端市場(chǎng)擴(kuò)張。投資者對(duì)該行業(yè)的持續(xù)關(guān)注，主要源自對(duì)中國(guó)芯片制造的良好預(yù)期。”深度科技研究院院長(zhǎng)張孝榮對(duì)《證券日?qǐng)?bào)》記者表示。

    按應(yīng)用領(lǐng)域劃分，光刻膠可分為PCB光刻膠、LCD顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠三大類，技術(shù)難度依照上述順序遞增。

    半導(dǎo)體光刻膠是光刻機(jī)“雕刻”晶圓必不可少的化工產(chǎn)品。對(duì)應(yīng)不同曝光波長(zhǎng)，主要有g(shù)線、i線、KrF、ArF和EUV光刻膠五大品類（波長(zhǎng)范圍依次減小，技術(shù)難度依次增加）。

    平安證券近日發(fā)布研報(bào)指出，我國(guó)g線和i線光刻膠的國(guó)產(chǎn)化率均為30%，KrF光刻膠的國(guó)產(chǎn)化率為10%，ArF光刻膠約為3%，EUV光刻膠尚處研發(fā)中。

    “光刻膠與晶圓制造工藝深度綁定，隨著曝光波長(zhǎng)的降低，留給光刻膠的工藝窗口會(huì)越來越窄，特別是KrF或ArF光刻膠，最好在晶圓工藝開發(fā)時(shí)就同步導(dǎo)入，否則工藝定型后再對(duì)使用的光刻膠進(jìn)行平替會(huì)非常困難。國(guó)內(nèi)現(xiàn)階段很多成熟產(chǎn)品線的工藝都是根據(jù)國(guó)外光刻膠定型的，這也是國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠市占率低的主要原因。”國(guó)內(nèi)某智庫(kù)一位不便具名的專業(yè)人士對(duì)記者表示，過去，國(guó)內(nèi)晶圓廠更多選擇海外供應(yīng)商進(jìn)行合作；隨著我國(guó)光刻膠企業(yè)技術(shù)水平的不斷提升，國(guó)內(nèi)晶圓廠在開發(fā)工藝時(shí)也會(huì)為國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)提供更多合作機(jī)會(huì)。

（編輯 白寶玉）